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  • 沉積系統(tǒng)
    沉積系統(tǒng)

    三到六個(gè)端口傳送腔室可用于集成ICP等離子刻蝕機(jī)、RIE刻蝕機(jī)、原子層沉積系統(tǒng)、PECVD和ICPECVD沉積設(shè)備，以滿足研發(fā)的要求。樣品可以通過(guò)預(yù)真空室和/或真空片盒站加載。

    更新時(shí)間：2024-07-10型號(hào)：訪問(wèn)量：974
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  • SENTECH二維材料刻蝕
    SENTECH二維材料刻蝕

    SENTECH二維材料刻蝕能夠在低溫100°C下高均勻度和高保形性地覆蓋敏感襯底和膜層，在樣品表面提供高通量的反應(yīng)性氣體，而不受紫外線輻射或離子轟擊。

    更新時(shí)間：2024-07-10型號(hào)：訪問(wèn)量：1149
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  • SENTECH原子層沉積設(shè)備
    SENTECH原子層沉積設(shè)備

    原子層沉積設(shè)備：真遠(yuǎn)程等離子體源能夠在低溫100°C下高均勻度和高保形性地覆蓋敏感襯底和膜層，在樣品表面提供高通量的反應(yīng)性氣體，而不受紫外線輻射或離子轟擊。

    更新時(shí)間：2024-07-10型號(hào)：SENTECH訪問(wèn)量：1274
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